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一听量、產(chǎn)品名稱：藥物晶種濕法研磨分散機,藥物晶種研磨分散機,藥物晶種濕法分散機,藥物晶種濕法研磨機

二剖坟、藥物晶種簡介

晶種是在結(jié)晶法中可以形成晶核從而加快或促進與之晶型或立體構(gòu)型相同的對映異構(gòu)體結(jié)晶的生長的添加物辆雇。加晶種進行結(jié)晶是控制結(jié)晶過程榕暴、提高結(jié)晶速率、保證產(chǎn)品質(zhì)量的重要方法之一完冻。

三飘具、晶種的意義

晶種用以提供晶體生長的位點，以便從均勻的鲁压、僅存在一相的溶液中越過一個能壘形成晶核载易，加入的晶種加速了目標晶型的生長速率，有助于得到目標品型佣棠。工業(yè)制品中颈墅，為了得到粒度大且均勻的晶體產(chǎn)品，都要盡可能避免初級成核雾袱，控制二次成核恤筛，加入適量的晶種作為晶體生長的核心通常是必須的官还，晶種的制備因此也成為制備晶體的一個重要環(huán)節(jié)。

晶種的重要性在于所用的晶種是否需要特別工藝獲取毒坛，如果需要望伦，則需要說明晶種的獲取途徑，如果晶種的性質(zhì)有特別要求煎殷，需說明晶種的特性及檢測方法屯伞。另外，晶種與晶型的穩(wěn)定性也存在一定的關(guān)系豪直。例如劣摇，也存在某一晶型在別的晶型晶體的表面生長。穩(wěn)定晶型會在亞穩(wěn)定型或不穩(wěn)定型晶型表面成核顶伞、生長饵撑，直至*轉(zhuǎn)晶，這是由于兩種型的某一晶面的結(jié)構(gòu)相似唆貌，溶質(zhì)分子可以在亞穩(wěn)定型或不穩(wěn)定型晶型晶面上直接堆積拙故、排列成穩(wěn)定晶型。

四吕得、藥物晶種的粒徑要求

目前許多結(jié)晶體一般在40-50UM 亮倍，下游的客戶在處理這些物料有跟高的要求一般需要達到5-10UM  ，傳統(tǒng)采用干法氣流粉碎 無法達到要求的細度浴誉，結(jié)合多家客戶案例纠惧，推薦GMSD20000系列研磨分散機進行晶種研磨細化處理，轉(zhuǎn)速18000rpm孝速，膠體磨+分散機一體化設(shè)備赛虽，粒徑可達D90≤10μm。

（詳情及價格橱殉，劉經(jīng)理-1-3-6-8-1-6-7-9-7-4-0刺泌，公司有樣機可實驗！）

五泰啼、SGN濕法研磨分散機的結(jié)構(gòu)特點

SGN濕法研磨分散設(shè)備采用德國的高速研磨分散技術(shù)男枝，通過超高轉(zhuǎn)速（高可達18000rpm）帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配GM+8SF，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使晶種在設(shè)備的高線速度下形成湍流分衫，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊场刑、破碎、研磨蚪战、分散牵现、均質(zhì)，從而得出超細的顆粒（當然也需要合適的分散劑做助劑）邀桑。

GMD2000系列研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)瞎疼，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)居扒，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封丑慎，并通冷媒對密封部分進行冷卻喜喂，把泄露概率降到更低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行竿裂。

六许蓖、藥物晶種研磨分散機選型表:

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