詳細(xì)介紹
超純水設(shè)備
常用工藝:
1.RO+離子交換
特點(diǎn):適用于原水水質(zhì)較好的條件婿失,投資較少,自動(dòng)化程度相對(duì)較低啄寡,適用于出水品質(zhì)在10—15兆歐/厘米豪硅。
2.RO+EDI
特點(diǎn):自動(dòng)化程度較高哩照,出水品質(zhì)穩(wěn)定,適用于出水品質(zhì)在15—17兆歐/厘米
3. RO+EDI+拋光床懒浮。
特點(diǎn):自動(dòng)化程度較高飘弧,投資較大,出水品質(zhì)優(yōu)良删广,適用于出水品質(zhì)在17—18.3兆歐/厘米
為了保障您的實(shí)際生產(chǎn)需求要尚,針對(duì)選擇工藝,請(qǐng)咨詢我司技術(shù)人員剩知。
基本參數(shù)
指標(biāo) | 參數(shù) |
EDI要求: | 反滲透RO產(chǎn)水朽擒,電導(dǎo)率1-50μs/cm,允許電導(dǎo)率≤50μs/cm |
pH值: | 7.5—9 |
溫度: | 15℃--35℃ |
進(jìn)水壓力: | 0.15—0.4MPa |
濃水進(jìn)水壓力: | 0.10—0.3MPa |
產(chǎn)水壓力: | 0.05—0.25MPa |
濃水出水壓力: | 0.02—0.2MPa |
進(jìn)水硬度: | <1.0ppm(以CaCO 計(jì)) |
進(jìn)水有機(jī)物: | TOC<0.5ppm |
進(jìn)水氧化劑: | Cl2(活性)<0.03ppm |
進(jìn)水硅: | SiO2<0.5ppm |
進(jìn)水總CO2: | <3ppm |
進(jìn)水顆粒度: | <1μm |
產(chǎn)品特點(diǎn)
①產(chǎn)品水品質(zhì)高瞭剧,長(zhǎng)期運(yùn)行產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定今搂。
②自動(dòng)化程度高,操作管理簡(jiǎn)單盘挠,勞動(dòng)強(qiáng)度低
③不會(huì)因再生而停機(jī)牡违,連續(xù)再生,無(wú)需停機(jī)吩欣。
④不需化學(xué)再生,無(wú)污水排廢
⑤運(yùn)行費(fèi)用低海庆,能耗低
⑥占地面積小恋瞳,廠房投資少
應(yīng)用行業(yè)
2私痹、電子工業(yè):半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體芯片统刮、半導(dǎo)體封裝紊遵、引線框架、集成電路侥蒙、印刷電路板暗膜、液晶顯示器、觸摸屏鞭衩、眼鏡鏡片学搜、數(shù)碼相機(jī)鏡片、導(dǎo)電玻璃论衍、顯像管瑞佩、線路板聚磺、光通信、電腦元件智谓、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用超純水莹宁。
3、生物醫(yī)藥工業(yè):生物技術(shù)用水裂膛、醫(yī)藥生產(chǎn)用水庇鸭、生化制品用水、針劑紧贪、粉針劑狂嘉、藥劑、大輸液藤该、科研無(wú)菌水询蚊、口服液等符合GMP標(biāo)準(zhǔn)。
4里状、化工工業(yè):化工工藝用水因震、化學(xué)試劑、化工生產(chǎn)用水鳞编、精細(xì)化工汁蝶、化妝品、洗潔精论悴、洗衣液掖棉、打印機(jī)墨水等生產(chǎn)工藝用純水。