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超純水設(shè)備

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更新時(shí)間:2022-08-11 10:49:19瀏覽次數(shù):700

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

超純水設(shè)備

詳細(xì)介紹

超純水設(shè)備



    此設(shè)備是將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎*去除诫睬,又將水中不離解的膠體物質(zhì)趟雄、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水處理設(shè)備仍稀。這種水中除了水分子(H20)外夺荒,幾乎沒(méi)有什么雜質(zhì)统诺,沒(méi)有細(xì)菌歪脏、病毒、含氯二惡英等有機(jī)物粮呢,超純水是一般工藝很難達(dá)到的,電阻率一般為10~18.3MΩ·cm.

常用工藝:

    1.RO+離子交換
    特點(diǎn):適用于原水水質(zhì)較好的條件婿失,投資較少,自動(dòng)化程度相對(duì)較低啄寡,適用于出水品質(zhì)在10—15兆歐/厘米豪硅。
    2.RO+EDI
    特點(diǎn):自動(dòng)化程度較高哩照,出水品質(zhì)穩(wěn)定,適用于出水品質(zhì)在15—17兆歐/厘米
    3. RO+EDI+拋光床懒浮。
    特點(diǎn):自動(dòng)化程度較高飘弧,投資較大,出水品質(zhì)優(yōu)良删广,適用于出水品質(zhì)在17—18.3兆歐/厘米
為了保障您的實(shí)際生產(chǎn)需求要尚,針對(duì)選擇工藝,請(qǐng)咨詢我司技術(shù)人員剩知。

基本參數(shù)

指標(biāo)參數(shù)
EDI要求:反滲透RO產(chǎn)水朽擒,電導(dǎo)率1-50μs/cm,允許電導(dǎo)率≤50μs/cm
pH值:7.5—9
溫度:15℃--35℃
進(jìn)水壓力:0.15—0.4MPa
濃水進(jìn)水壓力:0.10—0.3MPa
產(chǎn)水壓力:0.05—0.25MPa
濃水出水壓力:0.02—0.2MPa
進(jìn)水硬度:<1.0ppm(以CaCO 計(jì))
進(jìn)水有機(jī)物:TOC<0.5ppm
進(jìn)水氧化劑:Cl2(活性)<0.03ppm
進(jìn)水硅:SiO2<0.5ppm
進(jìn)水總CO2:<3ppm
進(jìn)水顆粒度:<1μm

產(chǎn)品特點(diǎn)

①產(chǎn)品水品質(zhì)高瞭剧,長(zhǎng)期運(yùn)行產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定今搂。
②自動(dòng)化程度高,操作管理簡(jiǎn)單盘挠,勞動(dòng)強(qiáng)度低
③不會(huì)因再生而停機(jī)牡违,連續(xù)再生,無(wú)需停機(jī)吩欣。
④不需化學(xué)再生,無(wú)污水排廢
⑤運(yùn)行費(fèi)用低海庆,能耗低
⑥占地面積小恋瞳,廠房投資少

應(yīng)用行業(yè)

1、太陽(yáng)能光伏行業(yè):?jiǎn)?多晶硅溃蔫、硅片切割健提、太陽(yáng)能電池、半導(dǎo)體硅材料等工用純水和超純水伟叛。
2私痹、電子工業(yè):半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體芯片统刮、半導(dǎo)體封裝紊遵、引線框架、集成電路侥蒙、印刷電路板暗膜、液晶顯示器、觸摸屏鞭衩、眼鏡鏡片学搜、數(shù)碼相機(jī)鏡片、導(dǎo)電玻璃论衍、顯像管瑞佩、線路板聚磺、光通信、電腦元件智谓、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用超純水莹宁。
3、生物醫(yī)藥工業(yè):生物技術(shù)用水裂膛、醫(yī)藥生產(chǎn)用水庇鸭、生化制品用水、針劑紧贪、粉針劑狂嘉、藥劑、大輸液藤该、科研無(wú)菌水询蚊、口服液等符合GMP標(biāo)準(zhǔn)。
4里状、化工工業(yè):化工工藝用水因震、化學(xué)試劑、化工生產(chǎn)用水鳞编、精細(xì)化工汁蝶、化妝品、洗潔精论悴、洗衣液掖棉、打印機(jī)墨水等生產(chǎn)工藝用純水。
 

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