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產(chǎn)品介紹：
該系統(tǒng)是一個特殊的雙管CVD系統(tǒng),是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計,特別是應用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究。通過滑動爐子可以實現(xiàn)物料的快速加熱和冷卻滑期。

應用范圍：
廣泛應用于半導體工業(yè)中沉積薄膜材料闽但，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料账阳、二維材料等阁喉，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試狡氏、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長噪设、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實驗。

技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品名稱	1200℃雙管滑道式CVD系統(tǒng)
部分： 1200度滑道雙管雙溫區(qū)管式爐
產(chǎn)品型號	1200度滑道管式爐
爐管尺寸	雙石英管外管：OD 100 x ID 96 x 1400 mm 內(nèi)管：OD 80 x ID 75 x 1800 mm
加熱區(qū)	220+220mm
供電電源	230V伍毙，單相唯乃，50HZ
功率	4.0 kw
加熱元件	電阻絲
升溫速率	0-20°C/min
熱電偶	K型
第二部分：水冷系統(tǒng)
法蘭	1.水冷機 CW-3000 2.水冷，密封雙管的真空法蘭：允許反應氣體通過兩管之間（10mm間隙）發(fā)生反應奋构，冷卻氣體直接通入內(nèi)管.
第三部分真空系統(tǒng)
真空系統(tǒng)	1. 防腐數(shù)顯真空計 2. VRD-16旋片泵壳影，抽速4L/S,含擋板閥 KF25接口，波紋管和箱體
第四部分混氣系統(tǒng)
質(zhì)量流量計量程： MFC 1: 0~10 sccm MFC 2: 0~200 sccm MFC 3: 0~10 slm MFC 3: 0~10 slm .......

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