VTC-600-2HD 雙靶磁控濺射儀

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更新時間：2023-01-11 10:01:39瀏覽次數(shù)：400次

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深圳市科晶智達科技有限公司

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產(chǎn)品簡介

簡要描述：VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是研制開發(fā)的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜俺下、導電薄膜、合金薄膜抡广、半導體薄膜预铁、陶瓷薄膜嚣赤、介質薄膜、光學薄膜簸翠、氧化物薄膜违冲、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等蒋毕。與同類設備相比略荡，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備歉胶。

詳細介紹

功能特點

配置兩個靶槍汛兜，一個為配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，一個為配套直流電源用于導電類材料的濺射鍍膜跨扮。
可制備多種薄膜序无，應用廣泛。
體積小衡创，操作簡便帝嗡。

技術參數(shù)
安裝條件	本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃璃氢，濕度55%Rh±10%Rh下使用哟玷。
水	設備配有自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水）
電	AC220V 50Hz，必須有良好接地
氣	設備腔室內需充注氬氣（純度99.99%以上）一也，需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭）及減壓閥
工作臺	尺寸1500mm×600mm×700mm巢寡，承重200kg以上
通風裝置	需要
電源電壓	220V 50Hz
大功率	<560W（不含真空泵）
極限真空度	< ?E-6mbar（配合本公司設備使用可達到?E-5mbar）
工作溫度	RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實際需要提升溫度）
靶槍數(shù)量	2個（可選配其他數(shù)量）
靶槍冷卻方式	水冷
靶材尺寸	Ø2″椰苟，厚度0.1-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同）
直流濺射功率	500W（可選）
射頻濺射功率	300W/500W（可選）
載樣臺	Ø140mm
載樣臺轉速	1rpm-20rpm內可調
保護氣體	Ar抑月、N2等惰性氣體
進氣氣路	質量流量計控制2路進氣，每個流量為100SCCM
主機尺寸	500mm×560mm×660mm
整機尺寸	1300mm×660mm×1200mm
重量	160kg
可選配件	金跷塘、銦苗鸦、銀、白金等各種靶材
標準配件	1	直流電源控制系統(tǒng)	1套
	2	射頻電源控制系統(tǒng)	1套
	3	膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)	1套
	4	分子泵（德國進口）	1臺
	5	冷水機	1臺
	6	冷卻水管（Ø6mm）	4根
	7	靶材（不銹鋼靶跋共、陶瓷靶）	各1件