超聲波半導體材料清洗機設(shè)備
清洗液的去污能力與溫度密切相關(guān)。如果清洗液的溫度過低踩麦，會降低溶液的化學活性枚赡，同時污物的溶解速度過低，不利于對小孔內(nèi)污物的清洗谓谦；隨著溫度的升高痴坦，會明顯朝著有利于清洗方向變化。但是翎襟，過高的溫度遏谭，溶液中的某些成分受熱分解而失去作用。當清洗溫度高于非離子表面活性劑的濁點時寿针，表面活性劑在水中的溶解度下降

超聲波半導體材料清洗機設(shè)備1思樟、極少會傷害到被清洗零件。2径卜、能夠洗凈微小的粒子晦哺。3、很少會引超洗凈斑芽茄，交有良好的洗凈均一性贩挨。4、不會產(chǎn)生噪音章神。5尤桃、可清除附近氧化鈰（cerium oxide），二氣化硅（sillicon dioxide）等研磨劑中干燥后的粒子爷耀。6甘桑、可良好產(chǎn)生及持續(xù)空穴現(xiàn)象（清洗能力強）。7歹叮、表面的交換性（exchange of surface contamination）良好跑杭，因為污染擴散快，能加強清洗能力咆耿，縮短清洗時間德谅。8爹橱、DI Water的沖洗性能良好，在清洗過程中即使清洗劑干燥窄做，也可以沖洗愧驱。9、可除去固著性的塵埃浸策。10冯键、可*清除0.5μ以下的粒子。超聲波半導體材料清洗機設(shè)備