ITO 半導(dǎo)體透明導(dǎo)電膜漿料研磨粉碎設(shè)備溃恼，ITO薄膜漿料高剪切研磨分散機(jī)磅愤，銦錫氧化物剪切研磨設(shè)備，精克，高剪切研磨分散設(shè)備昼反，導(dǎo)電聚合物研磨分散設(shè)備，德國(guó)進(jìn)口高剪切研磨設(shè)備硅魁，高轉(zhuǎn)速研磨分散設(shè)備

IKN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*塔奋，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎枯昂〈妓В可以一機(jī)多用，也可以單獨(dú)使用霸瘾，且粉碎粒度范圍廣隐听，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

LED具有光效高唆涝、能耗低找都、壽命長(zhǎng)、安全環(huán)保等優(yōu)勢(shì)廊酣，是一種具有廣闊應(yīng)用前景的照明方式能耻，受到越來越多國(guó)家的重視。目前LED已廣泛應(yīng)用于高效固態(tài)照明領(lǐng)域中亡驰，如顯示屏晓猛、汽車用燈、背光源凡辱、交通信號(hào)燈戒职、景觀照明等栗恩。

ITO是一種N型氧化物半導(dǎo)體-氧化銦錫，ITO薄膜即銦錫氧化物半導(dǎo)體透明導(dǎo)電膜洪燥，通常有兩個(gè)性能指標(biāo)：電阻率和透光率磕秤。

就透光率而言，目前ITO結(jié)構(gòu)存在以下缺陷蚓曼。出光需要從ITO薄膜透射出去蘑慕，使出光強(qiáng)度不高。

价烘。

可以通過研磨設(shè)備將其聚合物進(jìn)行細(xì)化蕊欣，均勻分散，這也就可以達(dá)到混合均勻細(xì)化的效果稻漏，可以順利通過過濾網(wǎng)愈秕，即達(dá)要求。

ITO 半導(dǎo)體透明導(dǎo)電膜漿料研磨粉碎設(shè)備俗运，ITO薄膜漿料高剪切研磨分散機(jī)言盼，銦錫氧化物剪切研磨設(shè)備，帜贝，高剪切研磨分散設(shè)備筐成，導(dǎo)電聚合物研磨分散設(shè)備，德國(guó)進(jìn)口高剪切研磨設(shè)備示谐，高轉(zhuǎn)速研磨分散設(shè)備

上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料谣皇。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)拔调，運(yùn)行噪音在73DB以下朴沿。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻败砂，把泄露概率降到低赌渣，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品昌犹。

第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽坚芜。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下斜姥，凹槽在每級(jí)都可以改變方向货岭。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要疾渴。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?/span> 在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度屯仗、中等精度搞坝、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列搔谴，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)桩撮、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能逸渤。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用仆腐。在大多數(shù)情況下骂间，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要鉴凸。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用伞买。

CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料驴涡，CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子肯坊，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼觅符，機(jī)座采用304不銹鋼诉拔；特殊要求如：硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料深吠，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況增厢，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)桑孩，可通冷卻或者升溫介質(zhì)拜鹤。

研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

1、 線速度很高洼怔，剪切間隙非常小署惯，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈镣隶，結(jié)果就是通常所說的濕磨

2极谊、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽安岂。

3轻猖、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強(qiáng)的流體湍流下域那，凹槽在每級(jí)都可以改變方向咙边。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料次员，可以滿足不同行業(yè)的多種要求败许。

從設(shè)備角度來分析，影響分散效果因素有以下幾點(diǎn)：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒檐射、中齒铜那、細(xì)齒、超細(xì)齒洪防、越細(xì)齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間杉抑、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好沛摩，到設(shè)備的期限就不能再好了在搀。）

線速度的計(jì)算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知帽遏，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距搓纠。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素，研磨分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性芳潦，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

ITO 半導(dǎo)體透明導(dǎo)電膜漿料研磨粉碎設(shè)備沧宠，ITO薄膜漿料高剪切研磨分散機(jī)，銦錫氧化物剪切研磨設(shè)備鹃漩，蕾奴，高剪切研磨分散設(shè)備，導(dǎo)電聚合物研磨分散設(shè)備制圈，德國(guó)進(jìn)口高剪切研磨設(shè)備们童，高轉(zhuǎn)速研磨分散設(shè)備