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一喉悴、產(chǎn)品名稱(chēng)：水性環(huán)氧樹(shù)脂納米研磨分散機(jī),環(huán)氧樹(shù)脂納米分散機(jī),水性環(huán)氧樹(shù)脂納米分散設(shè)備,涂料納米分散機(jī),樹(shù)脂納米分散機(jī)

二囚誓、水性環(huán)氧樹(shù)脂簡(jiǎn)介

水性環(huán)氧樹(shù)脂通常是指環(huán)氧樹(shù)脂以微粒咖熟、液滴或膠體形式分散于水相中所形成的乳液懊霹、水分散體或水溶液臣嚣，三者之間的區(qū)別在于環(huán)氧樹(shù)脂分散相的粒徑不同颅停。                                                                            

水性環(huán)氧樹(shù)脂分散后可以制備水性環(huán)氧樹(shù)脂涂料惫搏，一般有四種方式具温，較為簡(jiǎn)單直接的是機(jī)械法，機(jī)械法即直接乳化法筐赔，可用膠體磨铣猩、球磨機(jī)揖铜、砂磨機(jī)等設(shè)備先將固體環(huán)氧樹(shù)脂預(yù)先磨成微米級(jí)的環(huán)氧樹(shù)脂粉末，然后加入乳化劑水溶液达皿，再通過(guò)機(jī)械攪拌將粒子分散于水中; 或?qū)h(huán)氧樹(shù)脂和乳化劑混合天吓，加熱到適當(dāng)?shù)臏囟龋诩ち业臄嚢柘轮饾u加入水而形成乳液峦椰。用機(jī)械法制備水性環(huán)氧樹(shù)脂乳液的優(yōu)點(diǎn)是工藝簡(jiǎn)單龄寞，所需乳化劑用量較少，但乳液中環(huán)氧樹(shù)脂分散相微粒尺寸較大汤功，粒子形狀不規(guī)則且尺寸分布較寬物邑，所配得的乳液穩(wěn)定性差，粒子之間容易相互碰撞而發(fā)生凝結(jié)現(xiàn)象吟芜，并且該乳液的成膜性能也欠佳耻覆。

（價(jià)格電議，劉夯榛，营慷，公司有樣機(jī)可實(shí)驗(yàn)！）
 

三杯岩、機(jī)械法解決水性環(huán)氧樹(shù)脂分散問(wèn)題

當(dāng)然朽慕，機(jī)械法存在的問(wèn)題是可以很好的去解決的，乳液穩(wěn)定性差测脯，可以說(shuō)明兩個(gè)原因谬堕，一是水性環(huán)氧樹(shù)脂的粒徑?jīng)]有充分的細(xì)化，二是水性環(huán)氧樹(shù)脂沒(méi)有更好的分散到水中薯替，形成穩(wěn)定的乳液沈论。如果采用SGN高速剪切研磨分散機(jī)的話就可以解決機(jī)械法存在的問(wèn)題，使得環(huán)氧樹(shù)脂微粒能較為穩(wěn)定地分散在水相中救辖。SGN高速剪切納米研磨分散機(jī)簡(jiǎn)單的將就是將SGN高剪切膠體磨和SGN高剪切分散機(jī)合二為一簿煌，形成兩級(jí)的設(shè)備，*級(jí)為膠體磨磨頭鉴吹，實(shí)現(xiàn)研磨細(xì)化的功能姨伟；第二級(jí)為分散機(jī)分散盤(pán)，實(shí)現(xiàn)分散均勻的功能豆励。

四夺荒、SGN水性環(huán)氧樹(shù)脂納米研磨分散機(jī)特點(diǎn)

水性環(huán)氧樹(shù)脂研磨分散機(jī)，接觸過(guò)SGN上海思峻的人都知道良蒸，SGN膠體磨和SGN分散機(jī)在行業(yè)就是較的設(shè)備技扼，SGN膠體磨和國(guó)內(nèi)膠體磨相比、SGN分散機(jī)和國(guó)內(nèi)分散機(jī)相比都是存在巨大優(yōu)勢(shì)的，而SGN研磨分散機(jī)又是將二者結(jié)合的設(shè)備剿吻，處理效果窍箍，不言而喻。
 

SGN高速剪切研磨分散機(jī)有很高的線速度丽旅，以及*級(jí)磨頭椰棘，特殊上深下淺的三級(jí)磨頭結(jié)構(gòu)，一次處理即可滿足細(xì)化要求榄笙。*級(jí)刀頭形狀丰倾，可以把相對(duì)大塊的物料進(jìn)行初步粉碎，以便能順利通過(guò)更細(xì)的兩級(jí)進(jìn)行細(xì)微化研磨晶聂。     磨頭齒列深度為從開(kāi)始的 2.7mm 到末端的0.7mm齿雕，除了更精密之外，上深下淺的齒列結(jié)構(gòu)译拿，相較溝槽是直線，同級(jí)的溝槽深度一樣的磨頭请癣，可以保證物 料從上往下一直在進(jìn)行研磨薛对。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三級(jí)磨齒，但他們只能在一級(jí)磨頭到另外一級(jí)磨頭形成研磨效果砍倾。第二級(jí)分散盤(pán)深冶，無(wú)論是在分散盤(pán)的結(jié)構(gòu)、還是定轉(zhuǎn)子的間隙都有比其他分散盤(pán)要精密的多乎叫。

五欧陋、GMD2000系列納米研磨分散設(shè)備選型表

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