適用于在半導體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié)棋凳，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量早抠，涂膠工藝也顯得尤為重要沃琅。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的臀蛛，而硅片表面