光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)
產(chǎn)品名稱關(guān)鍵詞：光刻膠去除劑分散機(jī)薪寓，高剪切清洗液均質(zhì)機(jī)，氧化物拋光液研磨分散機(jī)澜共，超高速三級(jí)乳化機(jī)
二向叉、光刻膠去除劑
根據(jù)光刻膠下游應(yīng)用領(lǐng)域不同，公司光刻膠去除劑包括集成電路制造用嗦董、晶圓級(jí)封裝用母谎、LED/OLED用等系列產(chǎn)品，是用于圖形化工藝光刻膠殘留物去除的濕化學(xué)品京革，通過將半導(dǎo)體晶片浸入清洗液中或者利用清洗液沖洗半導(dǎo)體晶片奇唤，去除半導(dǎo)體晶片上的光刻膠殘留物。
三贪挽、光刻膠去除技術(shù)
隨著集成電路技術(shù)的發(fā)展累筋，其關(guān)鍵尺寸逐漸降低到亞微米。濕法蝕刻工藝因其各向同性蝕刻特性盯糠，越來越不能滿足需求，干法蝕刻工藝應(yīng)運(yùn)而生傅女。干法蝕刻工藝提供各向異性蝕刻形成金屬線(metal)洁揽、通孔(via)的同時(shí)，其離子束對(duì)光刻膠及鋁硅銅原酷、鋁銅杉轿、氧化物非介電質(zhì)材質(zhì)進(jìn)行轟擊疙鸟，使其表面形成高度交聯(lián)的光刻膠殘留物，同時(shí)因氬氣轟擊反濺作用昏络，側(cè)壁富含金屬材質(zhì)树戴。干法灰化工藝的采用，使其殘留物中含有有機(jī)慕然、無機(jī)氧化物及其金屬化合物万栅。這就要求光刻膠去除同時(shí)具有有機(jī)殘留物、無機(jī)殘留物以及金屬交聯(lián)殘留物去除能力西疤。
四烦粒、光刻膠剝離液氧化物分散問題
在制備光刻膠去除劑中，需要加入一些無機(jī)氧化物或金屬化合物代赁，以粉體的形式加入液中扰她，納米的細(xì)小顆粒與液體介質(zhì)充分接觸時(shí)候，粒子相互之間的團(tuán)聚力導(dǎo)致粉體出現(xiàn)團(tuán)聚現(xiàn)象芭碍，光刻膠去除劑的技術(shù)要求徒役，需將氧化物粉體在液相中均質(zhì)打開，分散均勻窖壕。GRS超高速研磨分散機(jī)是我公司好技術(shù)的主要產(chǎn)品忧勿，可很好的解聚，均質(zhì)艇拍，分散狐蜕。得到更穩(wěn)定的懸浮液。
五卸夕、GRS超高速研磨分散機(jī)的優(yōu)勢(shì)
研磨分散機(jī)是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)层释，被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定讨拷、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力馅拗、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用依粮，使物料被有效地乳化宿替、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果党令。
研磨分散機(jī)的細(xì)化作用一般來說要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī)锚渺，但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒)猖等，所以在很多場(chǎng)合下歪缅，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。
超高剪切速率谎秃，SID研磨分散機(jī)鼓募，轉(zhuǎn)速高達(dá)18000rpm灶鹦，線速度為44m/s，剪切速率為約為200000 S-1买雾。而國(guó)內(nèi)普通分散機(jī)的轉(zhuǎn)速一般為3000rpm把曼，我們的轉(zhuǎn)速是他們的4-5倍。
超細(xì)定轉(zhuǎn)子間隙漓穿，SID研磨分散機(jī)定轉(zhuǎn)子間隙一般為0.2-0.3mm嗤军，而國(guó)產(chǎn)分散設(shè)備一般為0.5-0.7mm，間隙越小研磨分散效果越好器净。
高精密度磨頭分散盤定轉(zhuǎn)子型雳，分散盤分為粗、中山害、細(xì)纠俭、超細(xì)齒。
4浪慌、全新的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)冤荆，將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備，膠體磨磨頭+分散盤定轉(zhuǎn)子权纤，先研磨后分散效果更佳钓简。
六、高剪切研磨分散機(jī)
研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品眉挥。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽朋蚜。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下深七，凹槽在每級(jí)都可以改變方向茧滞。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要粉霹。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面狠劳，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度喉侨、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列品隅，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)青礁、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能燃徊。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用谋监。在大多數(shù)情況下寸靶，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用秦士。線速度很高，剪切間隙非常小永高，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候隧土，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨命爬。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形曹傀，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離饲宛。在增強(qiáng)的流體湍流下皆愉，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料艇抠，可以滿足不同行業(yè)的多種要求
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光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)以下為型號(hào)表供參考：
| 型號(hào) | 標(biāo)準(zhǔn)流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標(biāo)準(zhǔn)線速度 m/s | 馬達(dá)功率 KW | 進(jìn)口尺寸 | 出口尺寸 |
| GRS2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
| GRS2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
| GRS2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
| GRS2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
| GRS2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
| GRS2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
